众所周知,光刻机被称为半导体产业“皇冠上的明珠”!
光刻机的工作原理也很简单,那就是通过一系列光源能量、形态束缚、将光束投射到刻画过电路板的掩膜上,
再经过光学补偿,将电路板成比例缩小投影到硅晶片上,最后以化学方法显影,得到刻画有电路图的硅晶。
业界把这种硅晶叫做芯片。
既然是光刻机,在工作过程中最需要的当然就是光了。
光在哪里传播呢?
空气中!
因此光刻机的工作环境要求绝对无尘,就连人体皮肤代谢的皮肤微粒都会对机器产生严重的损坏。
一般来说,无尘车间的空气要比外界干净1万倍!
此外,还对温度、湿度、空气流动等十余项参数有严重的要求。
别的不说,单是这种极限干净的无尘车间,就不是钉子能拥有的。
哪怕拥有系统,罗离也不可能凭空制造出这种程度的车间,就更不用提光刻机了。
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