“当前，业界EUV主要采取的办法，是将二氧化碳激光照射在锡等靶材上，激发出13.5nm的光子，作为光刻机光源。”

辛启天说着，脸上一副不以为然的样子。

身为开挂大佬，时间长了，自然要有这样的骄傲情绪。

尽管他自己在这些领域中，并没有任何新技术新知识点的研发，仅仅是已经学习熟知当前体系。

但是，依靠强大的开挂后的能力，让辛启天非常敏锐的察觉，其实现有的光刻机技术，非常简陋。

光刻是集成电路最重要的加工工艺，就好比传统制造业车间中车床的作用。

在整个芯片制造工艺中，几乎每个工艺的实施，都离不开光刻的技术。

光刻也是制造芯片的最关键技术，占据芯片制造成本的35%以上。

在如今的科技与社会发展中，光刻技术的增长，直接关系到大型计算机的运作等高科技领域。

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